当今我们享受着许多科技带来的便利生活，大多都要归功于半导体。半导体组件可说是现代科技应用的大脑，除了大家熟悉的手机、电脑等，近年来快速发展的AI人工智能、物联网、5G等，也都是以半导体材料为核心，制作集成电路而成。
半导体是什么？
半导体是一种具有特殊物理性质的材料，常温下导电能力介于导体和绝缘体之间，可通过外部施加电压来改变其导电能力。半导体在不施加外部电压的情况下，是尚未导电的；若对材料施加电压，原本不导电的材料将变成导电材料，使电流得以通过。
高纯度无污染要求
如此举足轻重、密不可分的半导体产业，制程中包含许多精密的集成电路和微机电，且为了避免产品的电性受到影响，其制程环境对洁净度具有严苛的要求。因此输送流体的过程需特别注意，确保生产制造环境维持在低污染水平，才不会影响到产品的良率。如果说半导体是先进科技发展的核心，那么泵浦便可称为半导体制造的核心了。
半导体制程
半导体晶圆制程中，某些步骤须依赖可靠的化工泵浦，才能达到高品质的生产要求，以下简单介绍晶圆与芯片的制造过程。
晶圆制程：
切片
晶棒 → 晶圆 → 研磨 → 洗净 → 浸蚀 → 抛光 → 洗净 → 硅晶圆
芯片制程：
硅晶圆 → 薄膜沉积 → 涂上感光剂 → 微影成像 → 显影 → 蚀刻 → 去除光阻
无轴封磁力泵浦在半导体制程中的应用
1. 晶圆清洗
晶圆之所以要清洗，是为了将表面的尘粒、化学污染物、金属残留物等杂质洗掉，才能确保半导体组件的电性参数及特性，达成可靠的品质。
而清洁过程中使用的盐酸、硫酸和过氧化氢等化学品，必须保持高纯度，且这些酸碱流体具腐蚀性，在输送时需注意防止泄漏，避免造成危险。
2. 显影、蚀刻
芯片的湿式制程中，如上述步骤所示，包含显影、蚀刻等，须使用显影剂及化学溶液，这些化学品的洁净度须受严格管控，也须注意输送时的腐蚀与泄漏问题。
3. 无尘室
由于当前的晶圆已拥有纳米级的制造技术，若有尘粒或污染物落在晶圆上，都有可能毁损到整个晶圆线路，因此为提升产品品质与良率，需要严格阻绝微尘粒子进入制程环境。晶圆厂的无尘室设备中，无污染处理和可靠性是整体的关键，针对洁净度的要求，某些类型的无尘室应用适合采用无轴封磁力泵浦，加上泵浦的材料最好为PTFE、ETFE，可防止化学品及超纯水从泵浦中泄漏出来，进而影响到制程。
4. 废水回收、排放系统
随着半导体产业的蓬勃发展，组件制造过程中，化学品的排放与回收利用成为受法律规范的一环。
一般半导体制程中使用的化学品到最后变成废液，像是有机、无机、重金属及研磨废水等，都需经过混合与分离处理后，才能被回收再利用。建置一个完善的回收排放系统时，内部使用的泵浦也必须严格把关，如此一来不仅可有效防止危险药液泄漏造成的污染问题，还能降低运作成本，达到最理想的废液回收及排放处理。
PTCXPUMP无轴封磁力泵浦可安心应用于：
- 化学品供应设备
- 内部制程供应系统
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PTCXPUMP无轴封磁力泵于半导体产业应用中，为您提供输送流体的最佳解决方案。无轴封的设计，与传统机械轴封泵浦不同，能有效避免泄漏，加上本体及多项部件材质使用GFR-PP及CFR-ETFE，具优异的耐腐蚀能力，适合输送酸碱药液等高腐蚀性或易燃、易爆的高危险性流体，在半导体产业中，可应用于各类设备系统中。
PTCXPUMP无轴封磁力泵系列中，PTC-100 ~ PTC-251为小型应用，PTC-400 ~ PTC-675为中大型应用，拥有多样型号符合您各项操作需求。PTCXPUMP致力于成为您安心使用泵浦的优先选择。
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半导体泵浦应用常见FAQ
Q1：半导体产业用什么泵？
半导体产业对洁净度要求极高，推荐采用无轴封磁力泵浦，能有效避免泄漏，适合输送高纯度酸碱化学品和超纯水。
Q2：晶圆清洗用什么化学品？
晶圆清洗通常使用盐酸、硫酸和过氧化氢等高纯度化学品，这些流体具腐蚀性，需要采用耐腐蚀的泵浦来输送。
Q3：半导体无尘室对泵浦有什么要求？
无尘室应用需要泵浦具有无污染处理和高可靠性，材料最好为PTFE、ETFE等耐腐蚀材质，可防止化学品及超纯水泄漏。
Q4：半导体废水处理需要注意什么？
半导体废水含有机、无机、重金属及研磨废水等，需经过混合与分离处理后才能回收再利用，使用耐腐蚀泵浦可有效防止药液泄漏。
Q5：PTCXPUMP无轴封磁力泵在半导体中的应用？
PTCXPUMP无轴封磁力泵可应用于半导体产业的化学品供应设备、内部制程供应系统、废液处理设备等。
