当今我们能够每天享受着许多科技带来的便利生活，大多都要拜半导体所赐。半导体组件可说是现代科技应用的大脑，除了大家熟悉的手机、电脑等，近年来迅速成长的AI人工智能、物联网、5G等，也都是需要由半导体材料作为核心，制作集成电路而成。
半导体是什麽？
半导体是一种具有特殊物理性质的材料，常温下导电能力介于导体和绝缘体之间，可借由外部施加电压来改变其导电能力。半导体在不施加外部电压的情况下，是尚未导电的；若对材料施加电压，原本不导电的材料将变成导电材料，使电流得以通过。
高纯度无污染要求
在我们的生活中如此举足轻重、密不可分的半导体产业，制程中包含许多精密的集成电路和微机电，且为了避免产品的电性受到影响，其制程环境对洁净度具有严苛的要求。因此输送流体的过程需特别注意，确保生产制造环境维持在低污染水平，才不会影响到产品的良率。如果说半导体是先进科技发展的核心，那麽泵浦便可称为半导体制造的核心了。
半导体制程
半导体晶圆制程中，有些步骤上须仰赖可靠的化工泵浦，才能达到高品质的生产要求，以下简单介绍晶圆与芯片的制造过程。
晶圆制程：
切片
晶棒 → 晶圆 → 研磨 → 洗净 → 浸蚀 → 抛光 → 洗净 → 矽晶圆
芯片制程：
矽晶圆 → 薄膜沉积 → 涂上感光剂 → 微影成像 → 显影 → 蚀刻 → 去除光阻
无轴封磁力泵浦在半导体制程中的应用
1.晶圆清洗：
晶圆之所以要清洗，是为了将表面的尘粒、化学污染物、金属残留物等杂质洗掉，才能确保半导体组件的电性参数及特性，达成可靠的品质。
而清洁过程中使用的盐酸、硫酸和过氧化氢等化学品，除了必须保持高纯度，且这些酸硷流体具腐蚀性，在输送时需注意防止泄漏，避免造成危险。
2.显影、蚀刻：
芯片的湿式制程中，如上述步骤所示，包含显影、蚀刻等，须使用显影剂及化学溶液，这些化学品的洁净度须受严格管控，亦须注意输送时的腐蚀与泄漏问题。
3.无尘室：
由于现今的晶圆已拥有奈米等级的制造技术，若有尘粒或污染物落在晶圆上，都有可能毁损到整个晶圆线路，因此为提升产品品质与良率，需要严格阻绝微尘粒子进入制程环境。晶圆厂的无尘室设备中，无污染处理和可靠性是整体的关键，针对洁净度的要求，某些类型的无尘室应用适合采用无轴封磁力泵浦，加上泵浦的材料最好为PTFE、ETFE，可防止化学品及超纯水从泵浦中泄漏出来，进而影响到制程。
4.废水回收、排放系统：
在半导体蓬勃发展的同时，组件制造过程中，为了能兼顾操作人员的安全及实现环境永续，化学品的排放与回收利用也成为受法律规范的一环。
一般半导体制程中使用的化学品到最后变成废液，象是有机、无机、重金属及研磨废水等，都需经过混合与分离处理後，才能被回收再利用。建置一个完善的回收排放系统时，内部使用的泵浦也必须严格把关，如此一来不仅可有效防止危险药液泄漏造成的污染问题，亦可降低运作成本，达到最理想的废液回收及排放处理。
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